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Guided Wave社の過酸化水素(H2O2)ベーパーモニター及び紫外・可視光分析計等の製品を取扱う、当社プロセス技術・触媒本部システムグループが、ステリスジャパン株式会社と共同で、2005年5月18日020日の3日間東京ビッグサイトで開催されたインターフェックスジャパンへ過酸化水素ベーパーモニター(写真左)を出展しました。 この過酸化水素ベーパーモニターは、過酸化水素および水のベーパー濃度測定、殺菌サイクルの開発および実機殺菌サイクルの過酸化水蒸気レベルのリアルタイム測定を行なうことで、プロセスエンジニアが、現在の殺菌サイクルの連続的かつ正確なデータを得ることを可能にしています。

今回のインターフェックスジャパンへの出展を通して、多数の企業から受注や購入検討という成果をあげることができました。

また、翌週の5月24日025日には防菌防黴学会の第33回年次大会ではパネル展示を行い、滅菌装置の製造販売関係の来場者から好評を博しました。

過酸化水素ベーパーモニターの仕様

H2O2 ベーパー測定レンジ

0.1 - 10.0 mg/l
[71.2 - 7120 ppm V/V]
H2O2 測定精度

+/- 0.1 mg/l

H2Oベーパー測定レンジ 1.0 - 50.0 mg/l
[1345 - 67,250 ppm V/V]
H2O測定精度 +/- 0.2 mg/l
波長精度 ±1.0 nm
帯域幅 6.0 ± 1.0 nm

平成17年5月26日(木) 日揮ユニバーサル株式会社

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